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펨토초 레이저를 이용한 나노 구조의 관찰ㆍ 제어ㆍ가공

전문가 제언
□ 1985년 G. Mourou 등에 의하여 처프 펄스 증폭(Chirped Pulse Amplification)기술이 개발된 이래, 현재에는 펄스폭이 펨토초에서 아토초(1as=10-18s)의 영역으로, 펄스의 강도도 테라와트(1TW=1012W)에서 페타와트(1PW=1015W)급이 개발되고 있다.

□ 특히 펄스폭이 펨토초 단위의 집광 레이저에 의한 비선형 광학 현상을 이용하여 나노 단위에서의 가공, 관찰 및 제어를 고속으로 실시하고자 하는 기술 개발이 세계 각국에서 활발하게 수행되고 있다.

□ 핵융합을 위시한 에너지 기술, 나노 단위의 표면 가공, 전도성 폴리머를 이용한 3차원 구조의 집적 회로의 제작, 환경 분야, 의학용으로 펨토초 레이저의 활용이 확대되고 있다.

□ 이를 위해서는 레이저 기술뿐만 아니라 이를 활용할 수 있는 주변 기술의 개발이 매우 중요하다. 우리나라도 테라와트 규모의 펄스 강도를 지닌 펨토초 레이저를 설계하고 제작할 수 있는 독자적인 기술 능력을 갖추고 있지만, 그 주변 기술의 미성숙으로 인하여 그 활용이 왕성하지 못하다.

□ 이를 극복하기 위해서는 레이저를 활용한 주변 기술의 개발에 국립연구기관들의 노력을 촉구한다.
저자
Katsumasa FUJITA, Satoshi KAWATA and Kenji TAKADA
자료유형
원문언어
일어
기업산업분류
전기·전자
연도
2003
권(호)
86(8)
잡지명
전자정보통신학회지(A104)
과학기술
표준분류
전기·전자
페이지
618~624
분석자
이*근
분석물
담당부서 담당자 연락처
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