펨토초 레이저를 이용한 나노 구조의 관찰ㆍ 제어ㆍ가공
- 전문가 제언
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□ 1985년 G. Mourou 등에 의하여 처프 펄스 증폭(Chirped Pulse Amplification)기술이 개발된 이래, 현재에는 펄스폭이 펨토초에서 아토초(1as=10-18s)의 영역으로, 펄스의 강도도 테라와트(1TW=1012W)에서 페타와트(1PW=1015W)급이 개발되고 있다.
□ 특히 펄스폭이 펨토초 단위의 집광 레이저에 의한 비선형 광학 현상을 이용하여 나노 단위에서의 가공, 관찰 및 제어를 고속으로 실시하고자 하는 기술 개발이 세계 각국에서 활발하게 수행되고 있다.
□ 핵융합을 위시한 에너지 기술, 나노 단위의 표면 가공, 전도성 폴리머를 이용한 3차원 구조의 집적 회로의 제작, 환경 분야, 의학용으로 펨토초 레이저의 활용이 확대되고 있다.
□ 이를 위해서는 레이저 기술뿐만 아니라 이를 활용할 수 있는 주변 기술의 개발이 매우 중요하다. 우리나라도 테라와트 규모의 펄스 강도를 지닌 펨토초 레이저를 설계하고 제작할 수 있는 독자적인 기술 능력을 갖추고 있지만, 그 주변 기술의 미성숙으로 인하여 그 활용이 왕성하지 못하다.
□ 이를 극복하기 위해서는 레이저를 활용한 주변 기술의 개발에 국립연구기관들의 노력을 촉구한다.
- 저자
- Katsumasa FUJITA, Satoshi KAWATA and Kenji TAKADA
- 자료유형
- 원문언어
- 일어
- 기업산업분류
- 전기·전자
- 연도
- 2003
- 권(호)
- 86(8)
- 잡지명
- 전자정보통신학회지(A104)
- 과학기술
표준분류 - 전기·전자
- 페이지
- 618~624
- 분석자
- 이*근
- 분석물
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